研微等离子体增强原子层沉积设备(PEALD)：Auratus，搭载研微双反应平台Celeritas-8,支持8片晶圆在独立反应腔内成膜,同时满足高产能和高膜质的需求。Auratus系列产品凭借极致的ALD小腔体，优化的流场、热场及RF回路设计，具有高稳定性、高腔体间匹配度、高稼动率、低前驱体消耗等优势，为集成电路和先进封装等客户提供高效稳定的量产解决方案。
等离子体增强原子层沉积设备
研微等离子体增强原子层沉积设备(PEALD)：Auratus，搭载研微双反应平台Celeritas-8,支持8片晶圆在独立反应腔内成膜,同时满足高产能和高膜质的需求。Auratus系列产品凭借极致的ALD小腔体，优化的流场、热场及RF回路设计，具有高稳定性、高腔体间匹配度、高稼动率、低前驱体消耗等优势，为集成电路和先进封装等客户提供高效稳定的量产解决方案。
极致小腔体有利 ALD 过程及颗粒控制
优化的 RF 回路设计
对称的热场、流场设计
注重人机交互体验的软件设计
多款产品统一平台，降低学习和维护成本