(PECVD&SACVD):Auroalis SiH4/TEOS，搭载研微双反应平台Celeritas-8C，支持8片晶圆在独立反应腔内成膜，同时满足高产能和高膜质的需求。SiH4/TEOS系列腔体通过优化的热场、流场及RF回路设计保证了工艺的高稳定性；腔室组件材料和表面处理流程的优化使得颗粒问题得到有效控制；陶瓷静电吸盘选项为解决晶圆翘曲问题提供了保障。 SiH4/TEOS系列产品应用极为广泛，为从平面架构到高深宽比3D结构的广大客户群提供用于多种器件类型和工艺节点的解决方案。
等离子体增强及次常压化学气相沉积设备
(PECVD&SACVD):Auroalis SiH4/TEOS，搭载研微双反应平台Celeritas-8C，支持8片晶圆在独立反应腔内成膜，同时满足高产能和高膜质的需求。SiH4/TEOS系列腔体通过优化的热场、流场及RF回路设计保证了工艺的高稳定性；腔室组件材料和表面处理流程的优化使得颗粒问题得到有效控制；陶瓷静电吸盘选项为解决晶圆翘曲问题提供了保障。 SiH4/TEOS系列产品应用极为广泛，为从平面架构到高深宽比3D结构的广大客户群提供用于多种器件类型和工艺节点的解决方案。
更高产能的平台设计
对称的热场、流场设计
优化的RF回路设计
更好的颗粒控制
注重人机交互体验的软件设计
多款产品统一平台,降低学习和维护成本