研微紫外照射处理设备(UV Cure):Auroalis UV，搭载研微双反应平台Celeritas-8C，支持8片晶圆在独立反应腔内成膜，同时满足高产能和高膜质的需求。 UV系列腔体通过优化的热场及流场设计保证了工艺的高稳定性；通过优化的反射材料设计提高对应波段反射率；腔室组件材料和表面处理流程的优化使得颗粒问题得到有效控制。 UV系列产品应用于Ultra LowK、HTN和FCVD等工艺的紫外照射处理，为从平面架构到高深宽比3D结构的广大客户群提供用于多种器件类型和工艺节点的解决方案。
紫外照射处理设备
研微紫外照射处理设备(UV Cure):Auroalis UV，搭载研微双反应平台Celeritas-8C，支持8片晶圆在独立反应腔内成膜，同时满足高产能和高膜质的需求。 UV系列腔体通过优化的热场及流场设计保证了工艺的高稳定性；通过优化的反射材料设计提高对应波段反射率；腔室组件材料和表面处理流程的优化使得颗粒问题得到有效控制。 UV系列产品应用于Ultra LowK、HTN和FCVD等工艺的紫外照射处理，为从平面架构到高深宽比3D结构的广大客户群提供用于多种器件类型和工艺节点的解决方案。
更高产能的平台设计
对称的热场、流场设计
提高对应波段反射率
更好的颗粒控制
注重人机交互体验的软件设计
多款产品统一平台,降低学习和维护成本