研微等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD):Auroalis LK，搭载研微双反应平台Celeritas-8C，支持8片晶圆在独立反应腔内成膜，同时满足高产能和高膜质的需求。LK系列腔体通过优化的热场、流场及液源汽化保证了工艺的高稳定性；通过优化的清洁方式降低颗粒污染并提高清洁效率。LK系列产品应用于BEOL互连中的多种LowK材料，为从平面架构到高深宽比3D结构的广大客户群提供用于多种器件类型和工艺节点的解决方案。
等离子体增强化学气相沉积设备
研微等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD):Auroalis LK，搭载研微双反应平台Celeritas-8C，支持8片晶圆在独立反应腔内成膜，同时满足高产能和高膜质的需求。LK系列腔体通过优化的热场、流场及液源汽化保证了工艺的高稳定性；通过优化的清洁方式降低颗粒污染并提高清洁效率。LK系列产品应用于BEOL互连中的多种LowK材料，为从平面架构到高深宽比3D结构的广大客户群提供用于多种器件类型和工艺节点的解决方案。
更高产能的平台设计
对称的热场、流场设计
稳定的液源汽化效率
更高的清洁效率及颗粒控制
注重人机交互体验的软件设计
多款产品统一平台,降低学习和维护成本