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Auratus-Q 系列

等离子体增强原子层沉积设备

研微高产能等离子体增强原子层沉积设备Auratus-Q,支持16片晶圆在独立反应腔内成膜,满足客户更高产能的需求。Auratus-Q搭载高精密旋转传片系统,在原有Celeritas-8平台上实现产能翻倍,坪效比提升接近1倍。同时Auratus-Q系列继承Auratus系列PEALD产品的优势,可实现Auratus系列工艺无缝转化。

市场应用

  • Logic
  • DRAM
  • 3D NAND
  • 先进封装
  • CIS

核心优势

多腔设计

产能对比Auratus系列翻倍

腔体容积小

极致小腔体有利ALD过程及颗粒控制

射频设计优化

优化的RF回路设计

热场、流场优化

对称的热场、流场设计

智能软件

注重人机交互体验的软件设计

统一平台

多款产品统一平台,降低学习和维护成本